控制器 VK-X3000

型號

VK-X3000

類型

控制器

綜合倍率

42 至 28800 倍^*1

視野範圍

11 至 7398 μm

量測原理

雷射共軛焦、Focus Variation、白光干涉、分光干涉

雷射光源波長

VK-X3100: 半導體雷射 404 nm
VK-X3050: 半導體雷射 661 nm

最快雷射量測速度

面：125 Hz、線：7900 Hz^*2

雷射最大輸出

0.9 mW

雷射分類

第 2 類雷射製品（IEC60825-1）

雷射受光元件

16 位元感測光電倍增管

白色光源

白色 LED

白光受光元件

超高精細彩色 CMOS

雷射共軛焦

高度顯示解析度

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重複精度 σ

VK-X3100: 10×：100 nm、20×：40 nm、50×：12 nm
VK-X3050: 10×：100 nm、20×：40 nm、50×：20 nm

高度準確性

0.2+L/100 μm 以下^*3

寬度顯示解析度

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

寬度重複精度 3σ

VK-X3100: 10×：200 nm、20×：100 nm、50×：40 nm
VK-X3050: 10×：400 nm、20×：100 nm、50×：50 nm

寬度準確性

量測值 ±2% 以內^*3

Focus Variation

高度顯示解析度

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重複精度 σ

VK-X3100: 5×：500 nm、10×：100 nm、
20×：50 nm、50×：20 nm
VK-X3050: 5×：500 nm、10×：100 nm、
20×：50 nm、50×：30 nm

高度準確性

0.2+L/100 μm 以下^*3

寬度顯示解析度

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

寬度重複精度 3σ

VK-X3100: 5×：400 nm、10×：400 nm、20×：120 nm、
50×：50 nm
VK-X3050: 5×：400 nm、10×：400 nm、20×：120 nm、
50×：65 nm

寬度準確性

量測值 ±2% 以內^*3

白光干涉

高度顯示解析度

0.01 nm

寬度顯示解析度

0.1 nm

Surface Topography Repeatability

0.08 nm^*4

Repeatability of RMS

0.008 nm^*4

分光干涉膜厚量測

重複精度 σ

0.1 nm^*4

準確性

±0.6%^*4

光學觀察

畫素數

560 萬

旋轉器

6 孔電動旋轉器

環狀照明適用鏡頭

2.5 倍、5 倍、10 倍

光學變焦

1 至 8 倍

XY 載物台構造

手動運轉範圍

70 × 70 mm

電動運轉範圍

100 × 100 mm

電源

電源電壓

100 至 240 VAC、50/60 Hz

功率消耗

150 VA

環境抗耐性

環境溫度

+15 至 28°C

相對濕度

20 至 80% RH（無凝結）

重量

約 3 kg